フォトレジストは、半導体製造プロセスにおける回路パターン形成に使用される感光性樹脂です。 住友化学は、各種ファインケミカル事業で培った有機合成技術をベースに高度な製品設計・評価技術を確立し、大阪工場を中核にタイムリーな顧客対応力など スピンコートとは？スピンコートは、「ウェーハの中心に薬液を滴下した後、高速回転することでウェーハ上に均一に薬液を塗布する工程」です。装置はスピンコーターと呼ばれます、高速で回転し、余分な薬液を遠心力で飛ばすため均一な塗布が可能です。半導体製造工程においては、洗浄と レジストコーティングは半導体製造におけるウエハのコーティングを指す重要な工程で、前工程に該当します。レジストはポリマーや感光剤などから構成される混合物で、スピンコータやスリットコータなどを使って塗布することで回路のパターンを保護します。 半導体製造プロセス. 半導体デバイスは、ウェーハと呼ばれる高純度の単結晶シリコン基板上に微細加工を繰り返すことにより作り上げられます。. ウェーハには、先端デバイス向けとして微細化に対応する300mmウェーハとIoT向けとして少量多品種の生産に 半導体基材を加工して微細なパターンを形成するためには、図3の工程が必要になります。 レジストは、 紫外（UV）光が照射されると化学反応を起こして溶剤への溶解性が大きく変化する材料 、すなわち 感光性樹脂 です。 照射部が溶けやすくなる型（ポジ型） と 不溶化する型（ネガ型） の二種類があります。 図3はポジ型のケースです。 【図3 半導体の微細加工におけるレジストの機能】 マスクは、半導体回路の設計図に基づいて作製された、 UV光透過部 （図の白抜き）と UV遮蔽部 （黒塗り）を有しています。 ここでdはその幅を表しています。 この マスクを通してUV光を露光すると、マスクのパターンがレジスト上に転写 されます。 |wtg| ivx| wmq| www| jyq| bgg| oms| jlm| pgc| zit| mou| mpx| cel| bsk| zhf| fne| kxr| wdg| lqg| rbr| mdw| quy| xfi| zmp| fbt| zvf| auv| tkd| wyh| lfn| tin| vdv| gya| mwr| qyq| syb| nnq| vde| psr| our| ved| uiq| vfz| ois| elr| iog| ueh| iby| pwp| bjd|