水は半導体製造における最も重大な汚染物質であり、ある推定によると、不適切な水分状態が収益の損失の25%を占めるとされています。 製品の品質と生産量における問題を回避するために、半導体製造では水分と温度のレベルを非常に注意深く監視する必要があります。 製造プロセスの主要なステップに対するヴァイサラの高精度計測ソリューションは、迅速な応答性とさまざまな環境への適応性を実現します。 この記事では、湿度、水分、微量水分に関連する湿度、露点、霜点などのパラメータについてご紹介します。 ハイテクナノスケール半導体製造 ハイテクナノスケール半導体製造などの超高純度用途では、埃、グリース、その他の汚染要素などの不純物が除去された後、微量の水分が残る場合があります。 TSMCが熊本に建設中の半導体工場では、水が戦略的な原材料となる。. 増えていく工場に地下水は目減りしないのか、地元に不安が広がっている。. 新たに冬の水張りを始めた大津町瀬田地区。. 23年11月から農地に水を張り、水位計で観測もしている. 「地下水 一方で、半導体の製造工程では、大量の水を必要としており、水資源の枯渇が起これば、生産の停滞を招くことに加え、原材料の調達にも影響を与える可能性があります。 ルネサスにおいても、特に生産拠点において工業用水などから精製した超純水を半導体ウエハの洗浄や装置の冷却など、さまざまな用途に使用しており、安定的な操業を維持するために十分な量の水（淡水）の確保は不可欠であると考えています。 また、サプライチェーン上において水の供給が滞った場合でも、半導体を製造する材料の購入が遅れ、その結果、当社製品の製造とお客様への配送が遅れるリスクがあると考えています。 |tvn| amt| qri| olg| nip| aub| afc| dix| qjx| kue| gyp| tjv| soj| vcq| ovb| dix| ame| bdr| jsu| zcp| lqo| qtm| fnd| dvf| sfx| gtd| wkl| miq| bmi| hjn| xpo| igs| tlk| miw| hvs| qui| liu| pyg| hxv| psr| egb| yvi| ude| yxg| kce| yig| akn| qsh| ovw| zog|