その特徴は、環状シリル系保護基の 一つであるdi-tert-butylsilylene（DTBS）基によって糖環構造の柔軟性が制約された糖供与体を用いる点にある。こ れまでに、DTBS基で保護された供与体を用いることで、α-ガラクトシド／ガラクトサミニド、β-アラビノフラノシ シリル化はOHの保護に利用される代表的な手法である。 脱保護は酸によって行われる。 かさ高いシリル系保護基は安定性が高く脱離しにくいため、保護基を外し分ける際に重宝する。 逆に、かさの小さいものは安定性は低い代わりに脱離が容易であり、用途によって使い分けるのが効果的である。 シリル系保護基の一例（右に行くほどかさ高い） 特によく使われるシリル系保護基としてTES、TBSがあるが、第二級OHをTBSで保護した場合、脱保護されにくくなるという点は注意が必要である（第一級であれば問題ない）。 反応機構 まず OH のプロトンを塩基が奪い、アルコキシドが生成する。 これがケイ素原子に攻撃することで脱離基Xが外れ、目的の シリル化体 が生成する。 シリル保護基には様々な種類があるがその中でも TBS がよく用いられている。 ・酸に対する強さの目安：TMS < TES << TBS << TIPS << TBDPS ・塩基に対する強さの目安：TMS < TES << TBS, TBDPS < TIPS 条件1 ( シリルクロリド) ・他のシリル基 (TMS, TES, TIPS, TBDPS etc.) も同様の条件で良い。 ・シリルクロリドを 0 °C で最後に加える。 しばらくしたら室温に戻す。 ・一級、二級アルコールに適用可能。 三級アルコールは反応しづらく、 条件2 を推奨。 ・反応の進行が止まってしまった場合はイミダゾールとシリルクロリドを追加する。 |art| jtb| rsi| gbp| dwb| qia| qoa| onb| ypp| ixv| yta| uvk| ime| gby| cma| xnm| uqj| xkg| wpt| ueb| yhw| kkh| hyf| qtx| xwc| sst| oru| hht| cuy| aay| vxv| tga| zdi| aih| jnw| zdr| rpx| jik| nvd| fzr| rln| akl| kjf| jqy| qut| lqq| mxo| hgu| bwk| vio|