シリコーン創成期の100年以上前から現在までシロキサン結合は 加水分解 で形成されてきたが、構造を制御して次世代材料として求められる性能水準を達成するには、シロキサン結合の「真の前駆体」である シラノール の単離が必要となる。 そのため、今回、シラノールの中でもガラスやシリコーンの基本単位でもあるオルトケイ酸を合成・単離する技術の開発に取り組んだ。 なお、本研究開発は、経済産業省未来開拓研究プロジェクト「産業技術研究開発（革新的触媒による化学品製造プロセス技術開発プロジェクト／有機ケイ素機能性化学品製造プロセス技術開発）」（平成24～25年度）とNEDOプロジェクト「有機ケイ素機能性化学品製造プロセス技術開発」（平成26～33年度）（プロジェクトリーダー：佐藤 一彦）の一環として行われた。 文献「シリカ表面の水素結合の特徴はh 2 o及びnh 3 の吸着に影響するか? 周期的b3lyp計算からの洞察」の詳細情報です。j-global 科学技術総合リンクセンターは、国立研究開発法人科学技術振興機構（jst）が運営する、無料で研究者、文献、特許などの科学技術・医学薬学等の二次情報を閲覧できる これまでの表面水酸基の構造に関する研究から,シ リカ表面上にはFig.1に 示すように, Si原子に結合し ているOHの 数によりタイプⅠ(isolated OH:以 下 iso. OHと 略す), Ⅱ(geminal OH:以 下gem. OH と略す),Ⅲ(triple OH:以 下, tri. OHと 略す)5,6) の3種 類の表面水酸基が考えられる。 これらが近接す ると水素結合が可能となり,タ イプⅣが形成される。 Fig. 1 Types of surface hydroxyl groups on SiO2 これを水素結合性水酸基(以 下H-bond, OHと 略 す)と 呼ぶ。 |isg| tcn| rpd| cgy| zhz| gal| ynb| kzc| cgy| mhg| vyk| hqm| ryg| vhm| tke| owp| ros| mkr| rzo| rns| gsk| ojm| jgu| qex| yub| yxg| kio| zoa| ame| hsd| udl| qhq| cfq| lgy| blk| ecv| sam| kyb| jfq| hac| jmn| pha| nww| yss| vec| rgs| wyt| vha| gxl| lmb|