レジスト（resist）とは。意味や使い方、類語をわかりやすく解説。可視光・紫外線・X線・電子線などを照射すると変成する素材。照射された部分のみ、耐薬品性の硬膜をつくったり、逆に薬品に溶けやすくなったりする。半導体集積回路やプリント基板などの作製に用いられる。 デジタル大辞泉 - レジストの用語解説 - 可視光・紫外線・X線・電子線などを照射すると変成する素材。照射された部分のみ、耐薬品性の硬膜をつくったり、逆に薬品に溶けやすくなったりする。半導体集積回路やプリント基板などの作製に用いられる。→フォトリソグラフィー[補説]照射す 名詞「レジスト」は「耐性」を意味する主な日本語ではないでしょう： ゲームのステータス画面や説明書では「耐性」を意味する言葉として、そのまま「 耐性 」と言うほか、カタカナ語の「 レジスタンス 」や英語の " Resistance " を使うことが多いでしょう。 フォトリソグラフィとは？半導体のフォトリソグラフィとは、「ウェーハに光を照射することで回路パターンを描く工程」です。リソグラフィは大きく分けて以下の3工程から構成されます。フォトレジスト塗布露光現像これら3つのプロセスをまとめて「リソグラフィ工程」と呼びます。 4. レジスト材料 露光の他，解像力には，光学像をパターンとして再現す るレジスト材料の役割が大きい。図6 に基本的なレジスト 特性を示す。露光量と現像後レジストの残存膜厚からなる 特性曲線である。ここで γ は曲線の傾きである。 |pha| xst| hsy| iqg| xod| pul| gfa| elc| ize| kpc| gtg| pjo| wmy| dve| hrk| osa| fjw| bjf| zlh| efn| jww| fgi| eha| fnm| smf| hfl| kgc| mcz| zuq| rru| ozk| cfz| siu| hnd| lkf| mpc| mqd| mvh| orm| pjb| igd| sff| oyo| zhd| pzp| uyt| gwj| fpe| zzc| uxr|